光學系統(tǒng)

儀器類型：單光束全反射消色差光學系統(tǒng)

單色器：消色差C-T型，焦距350mm

色散原件：平面衍射光柵，1800條/mm，刻畫面積40×40m㎡，閃爍波長250nm

光譜帶寬(nm)：0.1、0.2、0.7、1.4nm四檔自動切換    

波長范圍(nm)：190-900 

波長準確度(nm)：±0.20

波長重復性(nm)：≤0.05

光譜帶寬偏差：±0.2nm

分辨能力：可分辨Mn三線（279.5nm和279.8nm線峰谷≤30%）

光度性能

讀數(shù)方式：透光率、吸光度、濃度  

光度范圍：0-125%，-0.1-3.00A    

靜態(tài)基線漂移：(Cu)±0.003A/30min

動態(tài)基線漂移：(Cu)±0.003A/30min

雙背景校正：氘燈背景校正背景： ＞50倍以上校正能力（1Abs），校正波長可延伸到500nm以上

燈架系統(tǒng)：8燈位垂直安裝，自動換燈，二維自動微調對光系統(tǒng)。

檢測器：高靈敏度寬光譜范圍低噪聲光電倍增管

原子化系統(tǒng)：火焰

火焰分析

特征濃度(Cu)：(Cu)≤0.02ug/mL/1%

檢出限(Cu)：(Cu)≤0.005ug/Ml    

精密度：RSD≤0.5% 

燃燒器：10cm單縫金屬鈦燃燒器，高度自動設定，水平位置免調   

噴霧器：高效玻璃霧化器

霧化室：聚四氯乙烯霧化室，即使對腐蝕性極強的物質也有較高的抗蝕性

燃氣控制：德國進口質量流量計，自動控制氣體流量

安全措施：燃氣泄露、空氣欠壓、異常滅火、未水封自動報警和自動安全保護；霧化室自動泄壓，空氣常開。

石墨爐分析

特征量：對鎘Cd的特征量≤0.4×10^-12g

        對銅Cd的特征量≤20×10^-12g

檢出限：對鎘Cd的特征量≤0.5×10^-12g

精密度：對鎘Cd、對銅Cu的精密度；自動進樣≤1%，手動進樣≤2%

石墨爐陳升溫范圍：室溫～3000℃

大功率升溫控制范圍：1500℃～3000℃

升溫速率：最大升溫速率2000℃/S

原子化升溫方式：光控升溫，時控升溫，一般升溫

石墨管外保護氣體流量：1L/min

石墨管內保護氣體流量：可設停氣、開（0-50mL/min微流量或300-400mL/min固定流量）

安全措施：冷卻水流量、保戶氣壓力、爐體溫度、石墨管安裝自動報警和安全保護

數(shù)據(jù)處理

測量方式：火焰法，石墨爐法，氰化物發(fā)生-原子吸收法，火焰發(fā)射法

濃度計算方式：標準曲線法(共6種線性、非線性擬合方法)，標準加入法，內標法  

重復測量次數(shù)：1-30次，計算平均值，給出標準偏差和相對標準偏差    

報表打�。簠�(shù)打印，數(shù)據(jù)結果打印，圖形打印

其他

計算機、通訊接口：外接、RS-232接口

外形尺寸1×b×h nm：800×600×590

質量(重量)kg：85

電源要求：(220±22)V，頻率(50±1)Hz，詳見安裝條件